共用装置

フォトニクスセンター共用装置に関するお知らせ

フォトニクスセンター参画研究室の皆さまへ



ナノサイト、ナノインプリント装置につきましては共用装置から除外されました。

次回2021年春期募集は2021年5月～6月頃を予定しております。
利用料は年度ごとに見直し、改訂を行っております。


装置をご利用頂くには事前に利用申請が必要です。入居・メンバー企業・機関に関しましても、春期と秋期の２回のみの募集となります。 

期中の追加申請、その他ご不明な点等ございましたら、フォトニクスセンターまでお問い合わせください。
ご理解・ご協力のほど、よろしくお願い申し上げます。


・180328フォトニクスセンター共用装置説明会資料 
・フォトニクスセンター共用装置一覧

【お問い合わせ先】
Tel: 06-6879-4103
e-mail : parc_tech【atmark】parc.osaka-u.ac.jp
※atmarkを@に変更してお送りください